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发表人:hcvac002 发表时间:2013/5/26 16:22:00  

 

 本栏论题: PVD物理气相沉积真空镀膜技术  [1451]

    
    PVD物理气相沉积是有别于CVD化学气相沉积而发展起来的,它使用的是真空镀膜技术,相应的设备是真空镀膜机。
    目前已经开发出并比较成熟的工艺是蒸发镀技术、磁控溅射技术、离子镀技术这三种,蒸发镀是真空蒸发镀膜机靠加热使材料蒸发并沉积于工件表面成膜,磁控溅射是磁控溅射镀膜机靠电子轰击材料形成原子沉积于工件表面成膜,真空离子镀膜机是靠放电电离材料形成离子沉积于工件表面成膜,这三种技术都各有各的优势,可以按照不同的实际情况进行选择。
    PVD比CVD具有很大的优势,PVD属于环保产业,镀出来薄膜比CVD镀出来的更耐磨损、抗腐蚀,而且膜层均匀性和稳定性也胜于CVD,因此膜层的使用寿命也就更长了,另外,由于PVD是一种高科技技术,对膜层的各种参数都可以控制的很好,如膜层的厚度,现在我们所生产的薄膜都能以微米为衡量单位,可以做到非常细腻的效果,满足高档产品对表面镀膜的要求。根据靶材材料的不同,可以配合不同的真空镀膜机来镀制出不同的颜色。
    PVD物理气相沉积真空镀膜技术可以说已经成为了表面镀膜行业的必然趋势,越来越多的生产厂家会把资金投入到购买各种真空镀膜设备中,来为自己的生产线产量及品质得到更进一步的提升。
   
    汇成真空科技有限公司 专业真空设备制造商http://www.suichenggd.cn/

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