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    类金刚石膜的真空镀膜机镀膜技术除了溅射技术外，还可以通过离子束镀膜法、磁过滤真空弧镀膜法和激光电弧镀膜法。
    离子束镀膜法是以石墨为靶材，通入氩气形成氩等离子体，然后轰击靶材溅射出石墨离子，真空室内存在的电磁场对石墨离子提供加速度，使石墨离子加速沉积在工件表面，这种镀膜法有别于磁控溅射镀膜法的是另外还增加了离子枪，可以在靶材离子沉积的同时，产生离子束轰击工件表面，对于渐渐成型的类金刚石膜进一步轰击，这样的话，靶材离子沉积的速度就大幅度提高了，而且这样镀制的薄膜附着力非常高，膜层的均匀性和致密性更好，即使不加热也可以镀制出很好的薄膜，对于那些不能加热的工件，离子束镀膜法也可以镀膜了，但这种镀膜技术不能镀膜大面积的工件，因为离子枪很小，产生的离子束能覆盖的面积也相应小了。
    磁过滤真空弧镀膜法使用的电源是电弧电源，它会触发出电极，石墨靶材为阴极，在电弧电源的作用下，电极与阴极之间就会产生弧光放电，形成高密度的碳等离子流，具有离化率高的特点，电弧电源会产生大颗粒和中性原子，再利用磁过滤线圈把这些原子过滤掉，这样的话，沉积到工件表面形成薄膜的就差不多都是碳离子了，薄膜的纯度也就提高了。
    激光电弧镀膜法利用的是高能激光束，使用的电源是脉冲偏压电源，当激光束射向石墨靶材，会有碳原子被蒸发出，这些碳原子在脉冲偏压电源产生的电流作用下，产生电弧来制造离子轰击到工件表面形成薄膜，具有沉积速率高的特点。
    类金刚石膜的真空镀膜机制造方法是多种多样的，就一种薄膜，可以涉及到不同层次的镀膜技术，对于真空镀膜机镀制涂层的各种技术研究还是一条很长远的道路。
   
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