类金刚石膜可以通过真空镀膜机按不同技术因素做到偏向于金刚石那种超硬质的薄膜，也可以做到偏向于石墨的那种不硬的薄膜，而超硬质的薄膜是应用得最广泛的，相对来说，要找一种不硬的薄膜，选择多的是，但超硬质的却没有几种，所以做得最多的，当然就是超硬质的了。
类金刚石膜,DIAMOND-LIKE CARBON,简称DLC膜，运用在真空镀膜机上常用的溅射镀膜技术有三种，分别是直流溅射镀膜法、射频溅射镀膜法、磁控溅射镀膜法。
直流溅射镀膜法是通过直流电源的作用下，离子轰击阴极靶材溅射出来的原子，沉积到阳极的基片上，这种利用阴、阳极的镀膜法也叫二极溅射镀膜法，这种方法是最简单的，但沉积速度低，有些气体分子也随着靶材原子沉积到基片上，薄膜的纯度不高。
射频溅射镀膜法是通过射频放电来溅射沉积，可使用的靶材范围增大，从导体到半导体到绝缘体的材料都可以，但还是解决不了沉积速度低的缺点。
磁控射镀膜法是通过电离惰性气体，产生等离子体轰击靶材溅射出的原子沉积到基片上，这有别于直流电源，使用的是变压电源，周期交叉电磁场约束二次电子，使二次电子和气体碰撞电离率加大，从而增加了等离子的数量来轰击靶材，溅射出来的靶材原子量也增多，相对沉积速度就提高了，这是解决了直流溅射和射频溅射上的不足。
真空镀膜机运用溅射镀膜法制作类金刚石膜这种超硬质膜，可以根据生产厂商自身的硬件条件和产品质量需求的不同来选择不同的镀膜法。
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