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发表人:ltldltld 发表时间:2019/11/6 16:13:00  

 

 本栏论题: 半导体清洗用超纯水处理工艺流程介绍  [1190]

    自从我们的地球进入二十一世纪以来,人类文明便进入到了高度文明的电子信息时代,我们现在的生活中每天都离不开电子产品,伴随着近年来我国科学技术的飞速发展,高新技术产业比重越来越中。其中的电子行业占主要部分,而半导体同样是占有重要位置。半导体清洗用超纯水生产设备主要作用,能让出水水质达到国内外的各项标准。
   
      半导体清洗用超纯水处理工艺流程
   
      任何设备中的整体工艺流程非常严谨,需要不同程序相互配合。半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求,原水经过南方泵的加压进入四级预处理装置,预处理能去除水中的铁锈、大颗料物质。最后经过双极反渗透装置可以进一步去除水中的杂质,最后经过半导体清洗用超纯水处理工艺最后一道工序微孔过滤器来对水进行深度处理使水达到用水要求。
   

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