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    最先投入使用的磁控溅射镀膜机拥有的靶数只有一个，为了更好的提高磁控溅射的原理来镀膜，对于靶的研究从未停止，在本文中，我们来探讨一下三圆柱靶模式进行磁控溅射。
    圆柱靶的概念相信很多浸泡于磁控溅射真空镀膜设备行业的人都不会陌生，通常遇到的一台设备只有一个或两个，但三个的模式又是怎样的呢，在一个真空炉体里又是如何排列的。
    在真空炉体正对的两侧分别凸出两个弧度柱体空间，这空间与炉体相连，分别放置一个圆柱靶，由于这种凸出的弧度柱体空间设计，加大了炉体放置工件架的空间，也就是说可以镀制更多的产品，提高产量，这两个靶内只有向着炉体的半圆处排放着永久磁铁，背对着炉体的另一个半圆是什么都没有的。在这两者相连的直线上正中间，也就是炉体蹭位置再放置第三个圆柱，而在这个靶内围绕着圆中心整理排放着永久磁铁，工件架围绕着中间的圆柱靶。真空镀膜机运行时，三个圆柱靶分别施加电压，工件连接偏压电源，两边的圆柱靶自转，靶内的磁铁固定不动，如此只有向着炉体的靶面受到磁控的控制，提高溅射效率，不浪费靶材，而中间的圆柱靶固定不动，靶内的磁铁围绕靶中心转，工件架围绕中间的圆柱靶转，实现磁控溅射镀膜。
    圆柱靶的投入使用，使磁控溅射镀膜技术更进一步，无论靶数的数目是多少，都是为了更好的进行真空镀膜，而三圆柱靶模式进行磁控溅射更是体现了真空镀膜技术的无限可能。
    出自汇成真空镀膜设备http://www.suichenggd.cn/
    2013-7-25

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