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    所谓“阴极溅射”就是真空腔体内荷能粒子(主要是工作气体电离后的正离子)轰击阴极靶材，从而引起靶材表面粒子(正离子、原子和分子等)被撞击获能后从靶材表面逸出的现象。它是高能离子轰击阴极，使阴极表面的中性原子或分子获能逸出的过程，溅射是轰击粒子与靶材原子之间动态能量传递的结果。
    阴极靶材溅射能量阀值是指将靶材原子溅射出来所须的入射(即轰击)离子的最小能量值;当入射离子的能量低于溅射阀值时，虽然可以见到等离子体发出的较强辉光，但是不会发生靶材原子溅射逸出现象;溅射能量阀值与入射离子质量无明显依赖关系，但不同的工作气体对靶材溅射能量阀值会产生一定影响。不同阴极靶材的溅射能量阀值有很大的不同。溅射能量阀值随靶材原子序数增加而减小(即与原子核外电子能级排列与最外层电子“排列位置”的“满位”或“缺失”状况有关)。大多数金属靶材溅射能量阀值为10~30ev(氩Ar为工作气体)。轰击靶材离子的能量可以通过调节靶电源的输出，即改变磁控靶溅射电压进行控制。磁控靶溅射电压还会对溅射沉积的薄膜晶状结构造成影响。
    汇成真空镀膜机 磁控溅射镀膜设备http://www.suichenggd.cn/prd.aspx
    2013-6-21

 回复时间：2019/12/31 16:09:00

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